[9p-Z25-1~6] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[9p-Z25-3] Influence of glycerol in developer on novolac type positive-tone resist solubility.

〇Syunpei Kajita¹, Yukiko Miyaji¹, Hideo Horibe² (1.Sakamoto Co.,Ltd., 2.Osaka-City Univ.)

Keywords:resist, develop

レジスト解像度を向上させる方法の一つに、現像液にグリセリンを添加する方法がある。現像液中のグリセリンは、レジスト溶解性を制御し、解像度を向上させるとされている。この機能の全容を把握できれば、選択的にレジストを溶解する薬液を設計できると考え、作用機序の解明に取り組んでいる。本研究では、グリセリンを添加した現像液がレジストの溶解性や親和性に及ぼす影響、現像工程におけるレジスト成分の変化を評価した。