[9p-Z25-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-Z25-5] He/O₂混合ガス中で生成したOラジカルのレジストとの反応性評価

〇山本 雅史¹、秋田 航希¹、長岡 史郎¹、大平 圭介²、梅本 宏信^3,4、堀邊 英夫⁴ (1.香川高専、2.北陸先端大、3.静大、4.大阪市大)

キーワード：レジスト, 除去, ラジカル

我々はこれまでの研究で、H₂/O₂混合雰囲気において除去速度が向上することを見出した。H₂/O₂混合雰囲気では、Hラジカルに加え極微量のOラジカルとOHラジカルが生成される。本研究では、He/O₂混合雰囲気のもとでOラジカルを生成し、レジスト除去速度に対するOラジカルの影響を調べた。その結果、O₂の混合比率を増加させると、むしろ除去速度が低下することがわかった。H₂/O₂混合雰囲気における除去速度の向上は、OラジカルではなくOHラジカルによるものと考えられる。