13:45 〜 14:00 [14p-A303-1] ミスト CVD 法による HfxZr1-xO2薄膜の作製とその電気的特性 〇(B)藤原 悠希1、田原 大祐1、西中 浩之1、吉本 昌広1、野田 実1 (1.京工繊大)