09:30 〜 09:45 [14a-A202-3] 不活性ガス雰囲気下での熱処理を用いたクラックフリーMg2Si厚膜の合成 堀場 一成1、後藤 和泰1、〇黒川 康良1、伊藤 孝至1、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工)