東堂大地

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発表者・著者、共著者

2020年3月15日(日) 09:00 〜 11:30 A201 (6-201)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.6 IV族系化合物（SiC）

[15a-A201-1~8] 15.6 IV族系化合物（SiC）

11:15 〜 11:30

[15a-A201-8] シリコンキャップアニーリングを行ったn型4H-SiCのオーミックコンタクト形成メカニズムの解明

〇東堂大地¹、花房宏明¹、東清一郎¹ (1.広大院先端研)