16:00 〜 18:00 [13p-PA9-11] 電気化学的手法を用いたICP-RIE加工n-GaN表面の評価 武田 健太郎1、山田 真嗣2,3、渡久地 政周1、加地 徹2、〇佐藤 威友1 (1.北大量集センター、2.名大未来研、3.アルバック半電研)