14:00 〜 14:15 [14p-A405-4] X線非弾性散乱法によるSi1-xGex薄膜のフォノン分散評価 〇南部 英1、内山 裕士2、籔内 真1、小田 克矢1、早川 純1 (1.日立製作所 研究開発グループ、2.JASRI)