一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2020年3月12日(木) 09:30 〜 11:45 B410 (2-410)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 09:45
〇福島 涼太1,2、上杉 祐貴2、齋藤 晃3、佐藤 俊一2 (1.東北大院工、2.東北大多元研、3.名古屋大未来研)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇(M2)膝附 拓也1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、川月 喜弘2、筒井 皇晶3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学(株))
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇渡辺 明1、Rahman Ashiqur1,2、Cai Jinguang3、Aminuzzaman Mohammod4 (1.東北大多元研、2.American Int. Univ. Bangladesh、3.Inst. Mat., China Acad. Eng. Phys.、4.Universiti Tunku Abdul Rahman)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇津山 美穂1、杉本 優樹1、部谷 学2、中野 人志1 (1.近大理工、2.大産大工)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇欠端 雅之1、屋代 英彦1 (1.産総研 電子光)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇川本 兼司1、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇菊地 俊文1,2、妹川 要2、池田 晃裕3、中村 大輔1、浅野 種正1、池上 浩1,2 (1.九大シス情、2.九大 ギガフォトンNextGLP共同研究部門、3.崇城大学 情報学科)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇小島 洋治1、野尻 秀智2、大越 昌幸3 (1.広島県総研、2.レニアス、3.防衛大電気電子)
スケジュール
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