一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2020年3月12日(木) 13:30 〜 18:00 B410 (2-410)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇辻 剛志1、金子 美貴1、藤原 萌豊1、新 大軌1、宮崎 英敏1 (1.島根大総理工)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(M1)鄭 優莉1、Wang Haohao2、和田 裕之1 (1.東工大物質理工、2.南京農大)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇磯田 和輝1、柳原 龍河1、和田 裕之1 (1.東工大物質理工)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(B)佐嘉田 幹大1、菊池 俊文1,2、中村 大輔1、池上 浩1,2 (1.九大、2.九大ギガフォトン共同部門)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇川本 実季1、大島 広暉1、東畠 三洋1、池上 浩1、中村 大輔1 (1.九大シス情)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇肥後 輝1、片山 慶太1、福岡 寛2、吉田 岳人3、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大、2.奈良高専、3.阿南高専)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇岡田 蓮1、片山 慶太1、肥後 輝1、福岡 寛2、吉田 岳人3、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大、2.奈良高専、3.阿南高専)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(DC)片山 慶太1、福岡 寛2、吉田 岳人3、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大理工、2.奈良高専、3.阿南高専)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(DC)古川 雄規1,2、橋田 昌樹1,2、井上 峻介1,2、阪部 周二1,2 (1.京大化研、2.京大院理)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇茂呂澤 郁也1、林 秀一郎2、寺川 光洋1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇長野 陽1、水口 晃介2、尾上 弘晃1,2、寺川 光洋1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇釣 優香1、丸山 美帆子1,2、吉川 洋史1,3、安達 宏昭1,4、高野 和文2,4、塚本 勝男1,5、今西 正幸1、吉村 政志6、森 勇介1,4 (1.阪大院工、2.京府大生命環境、3.埼玉大院理工、4.創晶、5.東北大院理、6.阪大レーザー研)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(P)Daniela Serien1、Koji Sugioka1 (1.RIKEN RAP)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(P)Shi Bai1、Daniela Serien1、Kotaro Obata1、Koji Sugioka1 (1.RAP, RIKEN)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(M1C)田中 陽平1、細川 誓1、橋田 昌樹1,2、全 炳俊3、長島 健4、尾崎 典雅5、井上 峻介1,2、阪部 周二1,2 (1.京大理物、2.京大化研、3.京大エネ研、4.摂南大理工、5.阪大工)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇(M2)島原 光平1、小林 洋平1、谷 峻太郎1 (1.東大物性研)
スケジュール
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