10:00 〜 10:15
[12a-A202-1] 回転ウエハー上のPVAローラーブラシ変形挙動
キーワード:post-CMP、PVAブラシ
本研究では、全反射光学系上に回転ウエハー上で使用されるPVAローラーブラシを再現し、相対運動に伴うPVAブラシの変形や接触面での挙動を観察した。その結果、ブラシ側面が接触した特徴的な接触分布を明らかにし、その出現条件を調査した。
一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
2020年3月12日(木) 10:00 〜 11:45 A202 (6-202)
嵯峨 幸一郎(ソニー)
10:00 〜 10:15
キーワード:post-CMP、PVAブラシ