2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 09:30 〜 11:45 B410 (2-410)

大越 昌幸(防衛大)、津山 美穂(近畿大)

09:45 〜 10:00

[12a-B410-2] 光渦同軸干渉光を利用したレーザー描画露光法における位相差制御を用いた曲線レジストパターンの形成

〇(M2)膝附 拓也1、坂本 盛嗣1、野田 浩平1、川月 喜弘2、筒井 皇晶3、小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学(株))

キーワード:光渦、フォトリソグラフィ