The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

3 Optics and Photonics » 3.5 Laser system and materials

[12a-B508-1~11] 3.5 Laser system and materials

Thu. Mar 12, 2020 9:00 AM - 12:00 PM B508 (2-508)

Nobuhiro Umemura(Chitose Inst. of Sci. & Tech.), Ryo Yasuhara(NIFS)

10:45 AM - 11:00 AM

[12a-B508-7] High-power 355 nm UV generation by using CsLiB6O10 crystal

Kuniaki Atagi1, Ryota Murai2, Yoshinori Takahashi2, Yosuke Orii3, George Okada3, Masayuki Imanishi1, Yusuke Mori1, Masashi Yoshimura2 (1.Grad. Sch. of Eng., Osaka Univ, 2.ILE, Osaka Univ, 3.Spectronix Corp)

Keywords:355 nm UV generation, frequency conversion, CLBO crystal

非線形光学結晶CsLiB6O10(CLBO)を用いた355nm近紫外発生(Type2 和周波混合)において、我々は狭スペクトル幅・高ピーク強度かつビーム径の大きいピコ秒パルス光源を用いることで、CLBO素子から355nm光の高効率波長変換を実現してきた。本研究では、異なる品質のCLBO結晶から素子を作製し、355nm光の入出力特性を調査した。