[12p-A205-1~15] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[12p-A205-2] Numerical Analysis of Influence of Ar Mixture-Ratio on DLC surface condition and H content using Ar/CH₄ Plasma-Enhanced CVD Model

〇(M2)Shin Ogawa¹, Akinori Oda¹, Takayuki Ohta², Hiroyuki Kousaka³ (1.Chiba Tech., 2.Meijo Univ., 3.Gifu Univ.)

Keywords:Plasma enhanced chemical vapor deposition, Diamond-like carbon, Simulation

ダイヤモンドライクカーボン（Diamond-Like Carbon, 以下DLC）膜は高硬度，低摩擦係数といった特性を持つ膜である．DLCの成膜手法の1つにプラズマ支援化学気相成長法があり，膜の平滑性や付き回り性の良さが特徴である．
本研究では，炭化水素およびArイオンのDLC膜表面および膜内部への影響の解析を目的とし，プラズマ支援化学気相成長法によるDLC成膜モデルを構築し，DLC膜中の水素含有率および水素の薄膜表面被覆率について報告する．