[12p-A302-1~18] 8.1 Plasma production and diagnostics

[12p-A302-7] Correlation of OH Radical and Ashing Uniformity in Microwave Excited Water Vapor Plasma Ashing

〇Takeshi Aizawa¹, Taishin Shimada¹, Tasuku Sakurai¹, Tatsuo Ishijima¹, Yasunori Tanaka¹, Yoshihiko Uesugi¹, Yusuke Nakano¹, Itsuki Inoue², Ryo Ono² (1.Kanazawa Univ., 2.Univ. Tokyo)

Keywords:Microwave, Ashing, Optical emission spectroscopy

新規レジスト除去の手法として「水プラズマアッシング法」の研究開発が進められており，高速なフォトレジスト除去およびイオン注入されたレジスト除去が可能である。レジスト除去の均一性向上の課題に対し，マイクロ波の変調条件と照射距離を変更してレジスト除去速度の均一性を評価し，ラジカル発光強度の空間分布との相関について検討した。