2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[12p-B410-1~16] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 13:30 〜 18:00 B410 (2-410)

中村 大輔(九大)、寺川 光洋(慶大)、辻 剛志(島根大)

14:30 〜 14:45

[12p-B410-5] レーザーを用いたZnOマイクロ結晶球合成における雰囲気圧力の影響

川本 実季1、大島 広暉1、東畠 三洋1、池上 浩1、中村 大輔1 (1.九大シス情)

キーワード:酸化亜鉛、レーザーアブレーション、結晶球

我々は,これまでに大気中レーザーアブレーション法によるZnOマイクロ結晶球の合成と光励起による紫外Whispering gallery mode (WGM)レーザー発振に成功している.本研究では合成される結晶球における雰囲気圧力の影響を調査した.その結果,760~10 Torrの圧力下において結晶球の合成を確認した.一方,プラズマ発光のサイズは減圧するほど伸展する傾向にあった.