2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[12p-D215-1~12] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2020年3月12日(木) 14:00 〜 17:30 D215 (11-215)

海津 利行(神戸大)、舘林 潤(阪大)、中尾 亮(NTT)

14:30 〜 14:45

[12p-D215-3] 基板オフ角依存GaN中C濃度のステップ端偏析モデルに基づく解釈

望月 和浩1、堀切 文正2、太田 博1、三島 友義1 (1.法政大、2.サイオクス)

キーワード:半導体、不純物、偏析