The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices" » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[12p-D419-1~15] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Thu. Mar 12, 2020 1:45 PM - 5:45 PM D419 (11-419)

Takayoshi Oshima(FLOSFIA), Masataka Higashiwaki(NICT)

2:30 PM - 2:45 PM

[12p-D419-4] Generation of hole carriers in α-SnWO4

Yuka Dobashi1,2, Akane Samizo1,2, Naoto Kikuchi2, Makoto Minohara2, Yoshiyuki Aiura2, Keishi Nishio1 (1.Tokyo Univ.Sci, 2.AIST)

Keywords:oxide semiconductor

p型化が難しいワイドバンドギャップ酸化物において、価電子帯上端にSnの5s軌道成分をもつSn2Nb2O7およびSnNb2O6のp型伝導の発現に成功し、NbO6八面体中のNbサイトをSn4+が置換した欠陥により正孔を生成することを見出した。本報告では、Sn2Nb2O7やSnNb2O6と同様に八面体構造(WO6)をもつα-SnWO4に着目し、WサイトへのSn4+置換による正孔生成でp型伝導の発現と、結晶構造やSnの化学状態から正孔生成機構に関して議論する。