Thermal stability of 1X/X nm magnetic tunnel junctions with interfacial or shape anisotropy at high temperature

Junta Igarashi; Kyota Watanabe; Butsurin Jinnai; Shunsuke Fukami; Hideo Ohno

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.3 スピンデバイス・磁気メモリ・ストレージ技術

[13a-A501-1~8] 10.3 スピンデバイス・磁気メモリ・ストレージ技術

2020年3月13日(金) 10:00 〜 12:00 A501 (6-501)

山本竜也(産総研)

10:15 〜 10:30

▼ [13a-A501-2] Thermal stability of 1X/X nm magnetic tunnel junctions with interfacial or shape anisotropy at high temperature

〇(DC)Junta Igarashi¹、Kyota Watanabe¹、Butsurin Jinnai²、Shunsuke Fukami^1,2,3,4,5、Hideo Ohno^1,2,3,4,5 (1.RIEC, Tohoku Univ.、2.WPI-AIMR, Tohoku Univ.、3.CSRN, Tohoku Univ.、4.CSIS, Tohoku Univ.、5.CIES, Tohoku Univ.)

キーワード：Magnetic tunnel junction, Shape anisotropy