[13a-D215-1~7] 15.2 II-VI and related compounds

[13a-D215-6] Growth of Cu-doped ZnS layer by sputter epitaxy method

〇Yuta Doi¹, A-i Mizuno¹, Ki Ando¹, Hiroyuki Shinoda¹, Nobuki Mutsukura¹ (1.Tokyo Denki Univ.)

Keywords:Zinc sulfide, Sputter

我々は，超高真空高周波マグネトロンスパッタリング法を用いて，ZnS層のエピタキシャル成長を行っている．これまでに，ノンドープおよびAgドープZnS層について，840℃以上の高温領域におけるエピタキシャル成長を検討してきた．今回は，ZnS/Cuターゲットを用いてCuドープZnS層を成長し，ノンドープやAgドープZnS層の場合と比較検討を行ったので，その結果について報告する．