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[13a-D305-1] MBE法及びRIE法により形成したn-Ge/p-Ge(100)縦型ダイオードの電気特性
キーワード:ゲルマニウム、pn接合、MBE
次世代トランジスタ実現のため、我々の研究グループではこれまでRIE法を用いた縦型ナノワイヤ形成技術を実現してきた。今後同手法を縦型Geナノワイヤトランジスタへと応用するためには、縦方向に接合を形成する必要がある。今回我々はMBE法とRIE法を用いて縦方向にpn接合を有するGeピラー構造を形成し、その電気特性を評価したので報告する。