2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

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[13a-PA1-1~17] 1.3 新技術・複合新領域

2020年3月13日(金) 09:30 〜 11:30 PA1 (第3体育館)

09:30 〜 11:30

[13a-PA1-13] CF4ガスからプラズマ合成されたC2F4ガスの分離濃縮技術の検討

大参 宏昌1、田中 領1、中塚 宏学1、飯野 大輝2、栗原 一彰2、福水 裕之2、福原 成太2、林 久貴2、垣内 弘章1、安武 潔1 (1.阪大院工、2.キオクシア(株))

キーワード:フルオロカーボンガス、ガス製造、精製プロセス

テトラフルオロエチレン(C2F4)は、フルオロカーボン系撥水膜などの成膜原料ガスとして優れた性質を持つ反面、その反応性が極めて高いことから、高圧充填による輸送・保管が難しいガスである。そこで、我々は、この反応性の高いC2F4ガスをCF4原料ガスからオンサイトで生成・供給する装置の開発を行っている。本講演では、プラズマ処理により生成される反応生成物から、C2F4ガスを分離し、高濃度化する手法について検討した結果を述べる。