[13a-PA3-1~35] 6.3 Oxide electronics

[13a-PA3-18] Study on deposition of Al-doped ZnO films by ICP-assisted sputtering

〇Satoru Imaizumi¹, Tadashi Nakamura¹, Kunio Okimura¹ (1.Grad. Sch. Eng., Tokai Univ.)

Keywords:Transparent Conductive Oxide, Al-doped Zinc Oxide

Alドープ酸化亜鉛薄膜（AZO）は，透明導電膜として用いられている酸化インジウムスズ（ITO）の代替材料や太陽電池用透明電極としての利用など広く応用が期待されている．作製にはRFマグネトロンスパッタ等が用いられるが，径方向での膜厚，抵抗率不均一性が課題とされている．そこで本研究では，内部コイル型ICP支援スパッタ法を導入することで，AZO薄膜の径方向不均一性の改善を図った．