The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[13p-A302-1~10] 15.4 III-V-group nitride crystals

Fri. Mar 13, 2020 1:30 PM - 4:15 PM A302 (6-302)

Motoaki Iwaya(Meijo Univ.), Toshiki Hikosaka(Toshiba Corp.)

3:15 PM - 3:30 PM

[13p-A302-7] Local structural analysis of a single Ga1-xInxN/GaN quantum shell by using an X-ray micro-beam from the large synchrotron radiation facility of SPring-8.

〇(M1)Takato Ichikawa1, Tsurugi Kondo1, Nobuhiro Yasuda2, Yasuhiko Imai2, Tomoyo Nakao3, Shigeo Arai3, Nanami Goto1, Satoshi Kamiyama1, Daichi Imai1, Takao Miyajima1 (1.Meijo Univ., 2.Japan Synchrotron Radiation Research Inst., 3.IMaSS., Nagoya Univ.)

Keywords:X-ray diffraction, Nitride semiconductor, Nanowire

Ga1-xInxN/GaN量子殻は高効率なGaN系半導体レーザの構造として期待される。今回、集束イオンビーム(FIB)法とSPring-8のX線マイクロビームを組み合わせることで単一のGaN系量子殻の局所構造解析が可能になった。FIB法で取り出した量子殻の側面(1-100)にX線マイクロビームを照射、回折X線を測定、逆格子マップを作製した。更に、逆格子の絶対値を標準試料CeO2を使って校正した。GaNピークと量子井戸のサテライト信号が検出され、量子井戸周期が10 nmと求められた。