2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[14a-A302-1~13] 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年3月14日(土) 09:00 〜 12:30 A302 (6-302)

荒木 努(立命館大)、林 侑介(三重大)

11:00 〜 11:15

[14a-A302-8] 高温熱処理したスパッタAlN膜の熱歪解析

林 侑介1、上杉 謙次郎2、正直 花奈子3、三宅 秀人3,4、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工、2.三重大地域戦略、3.三重大院工、4.三重大院地域イノベ)

キーワード:窒化アルミニウム、歪解析

低転位密度AlN下地基板の作製方法としてスパッタ成膜したAlNに高温熱処理(アニール)を施すことで高品質化する技術が注目を集めている。1700 °Cのアニールで生じる熱歪により基板の反りや残留応力、クラックの発生といった課題があるものの、歪エンジニアリングによりクラックフリー膜厚480 nmにおいて貫通転位密度2×108 cm-2が達成されている。本報告では熱歪に由来する反り、応力、歪エネルギーといった指標を数値計算することでこれまでの実験結果を包括的に評価し、in situ観察の難しい高温環境下の挙動を材料力学の観点から説明する。