The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[14a-A305-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Sat. Mar 14, 2020 9:00 AM - 12:00 PM A305 (6-305)

Kuniyuki Kakushima(Tokyo Tech)

9:45 AM - 10:00 AM

[14a-A305-4] Development of minimal fab ion milling tool and the process characterization

kazushige sato1,4, Shunji Takahashi3, Shoji Den3, Sommawan Khumpuang1,2, Hara Shiro1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.KATAGIRI ENGINEERING, 4.Sakaguchi E.H VOC Corp.)

Keywords:Minimal Fab, Ion Milling

ミニマルイオンミリング装置を開発し、金属より削れ難い熱酸化膜において60sec加工し、ウェハ半径5mmまで削れ量18nm、ばらつき6%以下とプロトタイプ装置としては良好な加特性を確認した。