2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[14a-A410-1~10] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2020年3月14日(土) 09:00 〜 11:45 A410 (6-410)

江藤 数馬(産総研)

09:30 〜 09:45

[14a-A410-3] 近接昇華法による4H-SiCのB,N高濃度コドーピングに関する検討

〇(B)山根 耀真1、田中 大稀1、Weifang Lu1、柳井 光佑1、上山 智1、竹内 哲也1、岩谷 素顕1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大理工、2.赤﨑記念研究センター)

キーワード:SiC、近接昇華法

ホウ素、窒素をコドーピングした6H-SiCは蛍光SiCと呼ばれ、DAP発光によって約570nmをピークとするブロードな蛍光スペクトルが得られる。この蛍光SiCとポーラス構造を持ったポーラス蛍光SiCを組み合わせることによって演色性の高い白色LEDの作製が可能となる。本研究では材料を6H-SiCから4H-SiCへと変更し、B,Nの高濃度コドーピング達成に向けた成長温度の検討、成長圧力制御による表面状態改善の検討を行った。