2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[14a-A410-1~10] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2020年3月14日(土) 09:00 〜 11:45 A410 (6-410)

江藤 数馬(産総研)

11:00 〜 11:15

[14a-A410-8] 4H-SiC極性面の表面再結合速度の注入フォトン数依存性

韓 磊1、加藤 智久2、加藤 正史1 (1.名工大、2.産総研)

キーワード:4H-SiC、表面再結合速度、注入フォトン数依存性

キャリアライフタイム𝜏の値はSiCバイポーラデバイスにおいて、デバイス性能を左右する重要なパラメータである。また、𝜏の制限因子の中には表面再結合が存在しており、定量的な値を得ることがデバイス設計に不可欠である。本研究では、μ-PCD法とTRFCA法により、4H-SiCの極性面における表面再結合速度Sの注入フォトン数依存性の解析を行った。