2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

[14a-A501-1~13] 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

2020年3月14日(土) 09:00 〜 12:30 A501 (6-501)

好田 誠(東北大)、谷口 知大(産総研)

10:15 〜 10:30

[14a-A501-6] 両極性伝導体YH2におけるスピン拡散長の評価

〇(M1)川口 颯天1、芦澤 優吾1、高橋 侑太郎1、山崎 郁生1、Aktar Mst. Sanjida1、酒井 政道1、吉住 年弘1、花尻 達郎2、徳田 正秀2、藤井 泰彦2、中村 修3、Thach Pham Van4、粟野 博之4、長谷川 繁彦5 (1.埼大院理工、2.東洋大、3.岡山理大、4.豊田工大、5.阪大産研)

キーワード:スピン拡散長、スピン流、スピン注入

スピン偏極電流注入端子にフェリ磁性体GdFeCo, 対向電極に非磁性体Auを用いたHall-bar型構造を作製し, Hall効果測定によってYH2へのスピン注入を確認した. また, スピン注入端子からの距離を変えた3通りのHall抵抗値を測定することにより, YH2のスピン拡散長が約43 μmであると見積もられた. この結果は, 両極性伝導体に電子スピンと正孔スピンが注入されると, スピン拡散長が電荷偏極度に反比例して増大するという理論的予測が正しいことを裏付けた.