The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

11 Superconductivity » 11.5 Junction and circuit fabrication process, digital applications

[14a-B408-1~10] 11.5 Junction and circuit fabrication process, digital applications

Sat. Mar 14, 2020 9:00 AM - 11:45 AM B408 (2-408)

Yuki Yamanashi(Yokohama Natl. Univ.)

9:45 AM - 10:00 AM

[14a-B408-4] Niobium Etching Characteristics by Neutral Beam

〇(B)Taichi Konno1, Daisuke Ohori1, Mutuo Hidaka3, Kazuhiko Endo3, Hiroto Mukai4, Jaw Shen Tsai4, Seiji Samukawa1,2,3 (1.IFS, Tohoku Univ., 2.AIMR, Tohoku Univ., 3.AIST, 4.TUS)

Keywords:qubit, superconductor, niobium

量子ビットを構成する超伝導材料としてNbを用いた場合、Nb表面の酸化膜組成が量子ビット特性に影響を与える可能性がある。Nb酸化膜には絶縁体のNb2O5と金属的な性質を有するNbOやNbO2などのサブオキサイドがあり、これらがジョセフソン接合のトンネルバリア界面に存在すると接合特性が大きく劣化することが知られている。そこで、本研究では中性粒子ビームを用いて、Nb表面に形成される酸化膜の構造制御を試みたので報告する。