2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

[14a-B408-1~10] 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

2020年3月14日(土) 09:00 〜 11:45 B408 (2-408)

山梨 裕希(横国大)

09:45 〜 10:00

[14a-B408-4] 中性粒子ビームによるニオブ加工特性

〇(B)紺野 太壱1、大堀 大介1、日高 睦夫3、遠藤 和彦3、向井 寛人4、蔡 兆申4、寒川 誠二1,2,3 (1.東北大流体研、2.東北大AIMR、3.産総研、4.東理大)

キーワード:量子ビット、超伝導、ニオブ

量子ビットを構成する超伝導材料としてNbを用いた場合、Nb表面の酸化膜組成が量子ビット特性に影響を与える可能性がある。Nb酸化膜には絶縁体のNb2O5と金属的な性質を有するNbOやNbO2などのサブオキサイドがあり、これらがジョセフソン接合のトンネルバリア界面に存在すると接合特性が大きく劣化することが知られている。そこで、本研究では中性粒子ビームを用いて、Nb表面に形成される酸化膜の構造制御を試みたので報告する。