2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[14a-D221-1~12] 6.2 カーボン系薄膜

2020年3月14日(土) 09:00 〜 12:15 D221 (11-221)

嘉数 誠(佐賀大)、川原田 洋(早大)

10:45 〜 11:00

[14a-D221-7] 最大ゲート幅WG = 1 mmを有するALD-Al2O3多結晶ダイヤモンドMOSFETsの高周波特性評価

〇(B)荒井 雅一1、今西 祥一朗1、久樂 顕1、堀川 清貴1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研)

キーワード:ダイヤモンド、高周波、FET

我々は高温ALD法を用いてゲート絶縁膜・保護膜としてAl2O3を堆積させた高周波ダイヤモンドMOSFETsを作製し、出力電力密度Pout = 3.8 W/mmを報告してきた。更なる出力電力の向上にはゲート幅を拡大することが有効である。本研究では、ゲート幅WGを100 µmから1 mmまで拡大した2DHGダイヤモンドMOSFETsを作製し、高周波特性を評価した。