The 67th JSAP Spring Meeting 2020

Presentation information

Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.5 Ion beams

[14a-D305-1~10] 7.5 Ion beams

Sat. Mar 14, 2020 9:15 AM - 12:00 PM D305 (11-305)

Yasuhito Gotoh(Kyoto Univ.), Satoshi Ninomiya(Univ. of Yamanashi)

10:15 AM - 10:30 AM

[14a-D305-5] Improvement of Secondary Ion Yield with Electrospray Ion Source

Taiki Matsuda1, Toshio Seki1, Takaaki Aoki2, Jiro Matsuo1 (1.Grad. Sch. of Eng., Kyoto Univ., 2.ACCMS, Kyoto Univ.)

Keywords:SIMS, ESI, Cluster

SIMSによる有機試料の高空間分解能質量イメージングを実現するためには、高分子の二次イオン収率を高める必要がある。近年、Arクラスターイオンを一次プローブとして用いることで有機分子の二次イオン収率は大きく向上したが、分子の質量が大きくなるほど収率は低下するという問題があった。我々はESI法を用いて巨大なクラスターを生成し、高分子の二次イオン収率の向上を目的とした研究を行った。