[14p-B508-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

[14p-B508-4] 進化戦略で設計した高効率グレーティングカプラの作製

〇(M1)宮武 悠人¹、関根 尚希¹、カシディット トープラサートポン¹、高木 信一¹、竹中 充¹ (1.東大院工)

キーワード：グレーティングカプラ、シリコンフォトニクス

人工知能の光集積回路の構成要素の設計に対する適用可能性を検討するために、我々は人工知能の一種である共分散行列適応進化戦略(CMA-ES)を用いたグレーティングカプラの最適化設計に関する研究を進めてきた。今回は設計に基づいてSOI基板上にグレーティングカプラを作製し評価を進めた。