2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[15a-A202-1~8] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2020年3月15日(日) 09:00 〜 11:00 A202 (6-202)

中村 芳明(阪大)

09:15 〜 09:30

[15a-A202-2] CaSi2粉末のMgCl2/Mg雰囲気処理によるMg2Siナノシート束の作製

古賀 友也1、沼澤 有信2、志村 洋介1,2,3、高橋 尚久4、立岡 浩一2 (1.静大工、2.静大院工、3.静大電研、4.ヤマハ発動機先進材料研)

キーワード:シリサイド半導体、ナノシート

Mg2Siは環境に優しい熱電材料として注目されている.一方,低次元材料では特異な特性が発現することからその開発とデバイスへの応用が期待されている.これまでSiナノシート束をCaSi2よりCaを脱離する事により作製してきた.また、閉管容器内にてMgCl2を用いた熱処理によるMg2Si/Siナノシート束の作製が報告されている.本研究では,真空中にてMgCl2,及びMg金属を用いた熱処理によりMg2Siナノシート束を作製し微細構造を評価した.