[15a-PA5-1~25] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[15a-PA5-21] Inductively coupled plasma sputtering system of oxide semiconductors for large area deposition

〇Shigeaki Kishida¹, Daisuke Matsuo¹, Takuya Ikeda¹, Yoshitaka Setoguchi¹, Yasunori Andoh¹ (1.Nissin Electric)

Keywords:Inductively coupled plasma, Sputtering system, large area

これまでに我々はICPスパッタ装置(G1サイズ:320×400 mm)を開発し、本装置で成膜した高密度IGZO膜を用いることで、高信頼性を有するTFTを作製できることを報告している。今回、本装置の大型化検証機として、G4.5サイズ(730×920 mm)のICPスパッタ装置を開発したので、その膜厚、膜質の分布と改善方法について報告する。