[15a-PA5-1~25] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[15a-PA5-21] 大面積成膜に対応した酸化物半導体用誘導結合プラズマスパッタ装置

〇岸田 茂明¹、松尾 大輔¹、池田 拓弥¹、瀬戸口 佳孝¹、安東 靖典¹ (1.日新電機)

キーワード：誘導結合プラズマ、スパッタ装置、大面積

これまでに我々はICPスパッタ装置(G1サイズ:320×400 mm)を開発し、本装置で成膜した高密度IGZO膜を用いることで、高信頼性を有するTFTを作製できることを報告している。今回、本装置の大型化検証機として、G4.5サイズ(730×920 mm)のICPスパッタ装置を開発したので、その膜厚、膜質の分布と改善方法について報告する。