[15a-PB2-1~22] 8 Plasma Electronics

[15a-PB2-8] Effect of positive bias voltage applying to subtrate for atmospehric-pressure plasma jet deposition process

〇Yoshiki Shimizu^1,2, Kazuto Hatakeyama^1,2, Yukiya Hakuta^2,1 (1.NMRI, AIST, 2.Operando OIL, AIST)

Keywords:atmospheric pressure plasma, gold nanoparticle, nanocomposite film

大気圧プラズマジェットを用いる成膜プロセスで、プラズマ照射による成膜基板の損傷抑制を目的として、薄膜基板への正バイアス電圧印加効果を検討した。酸化亜鉛薄膜表面への金ナノ粒子デポジションプロセスを例に、薄膜の結晶性や光触媒特性について、正バイアス電圧印加有無のケースの比較を通して正バイアス電圧印加の効果を発表する。