09:30 〜 11:30
[15a-PB3-2] Si ナノウォールアレイ作製プロセス技術の開発
キーワード:シリコン、ナノウォールアレイ、異方性エッチング
太陽電池への応用を目的としたワイドバンドギャップSiを実現するため、量子サイズ効果を発現させるナノウォールアレイの開発を進めてきた。ナノインプリントを用いたマスクパターニングとKOHによるSi異方性エッチングと更なる薄化と幅の不均一性是正のためのエッチング方法、乾燥プロセス検討の結果を報告する。
一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
2020年3月15日(日) 09:30 〜 11:30 PB3 (第1体育館)
09:30 〜 11:30
キーワード:シリコン、ナノウォールアレイ、異方性エッチング