2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[15p-A302-1~12] 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年3月15日(日) 13:45 〜 17:00 A302 (6-302)

岡田 成仁(山口大)、室谷 英彰(徳山高専)

15:45 〜 16:00

[15p-A302-8] UVB-LDの組成傾斜p-AlGaNクラッド層の光閉じ込めと導電性のAl組成依存性

〇(B)山田 和輝1、佐藤 恒輔1,2、安江 信次1、田中 隼也1、手良村 昌平1、荻野 雄矢1、大森 智也1、石塚 彩花1、岩山 章1,4、岩谷 素顕1、竹内 哲也1、上山 智1、赤﨑 勇1,3、三宅 秀人4、寒川 義裕5、Konrad Sakowski6 (1.名城大学、2.旭化成(株)、3.名古屋大・赤﨑記念研究センター、4.三重大・院・地域イノベ、5.九大・応力研、6.Institute of High Pressure Physics)

キーワード:半導体、UVB、AlGaN