2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15p-D215-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2020年3月15日(日) 13:45 〜 16:45 D215 (11-215)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)、川田 博昭(阪府大)

14:15 〜 14:30

[15p-D215-3] 超低消費電力AIエッジチップ用のリソグラフィDTCOの計算予測

門田 和也1 (1.ナノサイエンスラボ)

キーワード:AIエッジチップ、超低消費電力、リソグラフィDTCO

人工知能時代の到来により、超微細デバイスの必要性はAIエッジチップアプリケーションに拡大され、最先端の産業として重要な地位になった。 近未来のAIエッジチップは、必然的に高集積化とサブナノメータリソグラフィに移行するが、本論文は、リソグラフィ分野のDTCO(設計・技術同時最適化)の観点から、超低消費電力のキャッシュSRAMを対象として、そのデバイス性能に関する計算機予測を行った。その結果、超低消費電力での安定動作の鍵となる電源電圧(Vdd)を0.3V~0.4Vに低減でき、動作エネルギーを約9%に削減できることが分かった。