[15p-D305-1~13] 1.6 Ultrasonics

△ [15p-D305-4] Effect of Cr doping on crystal orientation and electromechanical coupling coefficient of c-axis oriented AlN films

〇Yusei Takano¹, Ryusei Hayakawa¹, Masashi Suzuki¹, Shoji Kakio¹ (1.Univ. of Yamanashi)

Keywords:AlN film, electromechanical coupling coefficient, sputter

圧電性増幅が理論的に報告されているが，実験的にGHz帯での電気機械結合係数k値の増幅が確認されていないc軸配向CrAlN膜をスパッタ法で作製し、Crドープが結晶配向性とk値に及ぼす影響を評価した．Cr濃度の増加に伴いAlN(0002)ピークが低角側にシフトし，16 %を超えると再び高角側に戻る現象を確認した．Cr_0.01Al_0.99N膜のk_t²は純AlNの約1.2倍であり、結合係数の増幅を確認した．10%以上のCr濃度では，導電性発現によりバルク波が励振されなかった．