The 67th JSAP Spring Meeting 2020

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[15p-D311-1~8] 6.3 Oxide electronics

Sun. Mar 15, 2020 1:45 PM - 3:45 PM D311 (11-311)

Ryota Shimizu(Tokyo Tech)

2:15 PM - 2:30 PM

[15p-D311-3] Improvement in dielectric constant of SrTiO3 thin film formed by multi-step liquid phase deposition

Shogo Hyakkan1, Taro Arakawa1, Nobuo Haneji1 (1.Graduate School of Eng., Yokohama National Univ.)

Keywords:liquid phase deposition, strontium titanate

我々はこれまで、低コストで低温プロセスであるSrTiO3膜の製膜方法として液相堆積(Liquid Phase Deposition:LPD)法を検討し、SiO2/Si上へのSrTiO3薄膜合成に成功している。しかし、比誘電率は90程度で、ゾルゲル法などの他の製膜法を用いた場合と比較すると比誘電率が低いという問題があった。そこで、比誘電率の向上を図るため、堆積を2回に分けて行う繰り返しLPD法を提案し、本手法によって製膜したSrTiO3の特性を評価したので報告する。