[15p-D311-1~8] 6.3 Oxide electronics

[15p-D311-8] Structure and electric properties of ultra-thin LaCuO_3-d film

〇Shutaro Asanuma¹ (1.AIST)

Keywords:LaCuO3, PLD, thin film

最近、ABO₃をCaH₂用いてトポタクティックに還元してABO₂を作製する研究が注目を集めているが、RCuO₃（R：希土類）を還元してRCuO₂を作製する研究についてはまだ報告がない。この母体となるRCuO₃薄膜の膜厚40nm以下の構造及び電気特性に関する報告はまだなく不明な点が多い。本研究では膜厚40nm以下のLaCuO_3-d薄膜を作製し構造解析及び電気特性評価を行ったのでその結果を報告する。