11:00 〜 12:40 [22a-P08-8] 有機シリコン原料を用いたCCP-CVD法によるスポンジ状SiO:CHの形成 〇中泉 有稀1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大工、2.関東学院大材料表面研)