奥村優一

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発表者・著者、共著者

2021年9月12日(日) 09:00 〜 12:00 N402 (口頭)

一般セッション(口頭講演)
| 11 超伝導
| 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[12a-N402-1~11] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

09:00 〜 09:15

[12a-N402-1] エアロゾルデポジションによる酸化物高温超伝導体Bi₂Sr₂Ca₂Cu₃O_y薄膜の作製と評価

〇奥村優一¹、佐藤祐喜¹、吉門進三¹ (1.同大理工)