13:30 〜 13:45 [13p-S301-3] プラズマ化学気相成長法により作製したSiおよびN添加DLC膜特性への水素およびAr希釈の効果 〇佐々木 祐弥1、長内 公哉1、大谷 優介1、室野 優太1、佐藤 聖能1、小林 康之1、遠田 義晴1、鈴木 裕史1、中澤 日出樹1 (1.弘前大理工)