09:15 〜 09:30 [11a-N401-2] Si系材料添加における193nm液浸レジストの表面特性制御 〇唐 晨1、関口 淳2,3、安田 雅昭3、平井 義彦3 (1.上海新陽半導体、2.リソテックジャパン、3.阪府大院工)