10:00 〜 10:15 [11a-N205-5] FLA処理を行った強誘電性HfxZr1-xO2薄膜のEndurance特性の評価 〇和泉 賢人1、太田 裕登1、河原崎 光2、谷村 英昭2、加藤 慎一2、奈良 安雄1 (1.兵県大工、2.SCREENセミコン)