11:00 〜 11:15 [10a-N202-7] a-Siキャップ付加による界面変調Sn添加Ge極薄膜/絶縁基板のキャリア移動度向上 〇原 龍太郎1、千代薗 修典1、茂藤 健太2,3、山本 圭介2、佐道 泰造1 (1.九大・システム情報、2.九大・総理工、3.学振特別研究員)