10:15 〜 10:30 [11a-N205-6] TiN/HfxZr1−xO2/Si-MFS作製におけるSiO2界面層成長の抑制 〇(PC)女屋 崇1,2,3、生田目 俊秀2、井上 万里2、澤田 朋実2、太田 裕之1、森田 行則1 (1.産総研、2.物材機構、3.学振PD)